Sputter磁控溅射系统 新平台19002923 (DISCOVERY-635)
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设备型号 :DISCOVERY-635
当前状态 : |
负责人 :孙家宝
联系人 :孙家宝 18158517166
放置地点 :微纳加工中心
IP地址 :
400元 / 小时
- 名称Sputter磁控溅射系统 新平台19002923
- 资产编号19002923
- 型号DISCOVERY-635
- 规格
- 产地
- 厂家美国DENTON
- 所属品牌
- 出产日期
- 购买日期
- 所属单位浙江大学
- 使用性质科研
- 所属分类镀膜
- 联系人孙家宝
- 联系电话18158517166
- 联系邮箱
- 放置地点微纳加工中心
主要规格及技术指标
沉积各种金属、氧化物(目前可做:银、铝、钛、镍、铬、锌、铜、钨、锗、氮化钛、二氧化硅、ITO)样品尺寸:6英寸向下兼容
溅射源:
3个3英寸标准磁控靶枪
1个3英寸磁性增强靶枪 ---可用于溅射磁性材料
溅射电源:
1套1200W直流电源
2套600W射频电源
衬底加热:最高800℃
膜厚检测:Inficon 晶振
样本检测注意事项
校内:【1】自行操作400元/小时。
【2】委托加工600元/小时。
【3】设备培训200元/人/次(机时费另算)。
【4】起步时间30分钟。15分钟为基本计时单位。
【5】靶材自带或由平台提供费用另计。
【说明】收费标准仅针对单项工艺,如有特殊要求,费用另行计算并折算机时计收。
校外:
【1】自行操作650元/小时。
【2】委托加工850元/小时。
【3】设备培训400元/人/次(机时费另算)。
【4】起步时间30分钟。15分钟为基本计时单位。
【5】靶材自带或由平台提供费用另计。
【说明】收费标准仅针对单项工艺,如有特殊要求,费用另行计算并折算机时计收。