• 名称CEE Spin-Hotplate一体机19008323
• 资产编号19008323-1
• 型号APOGEE X-PRO II
• 规格
• 产地
• 厂家美国CEE
• 所属品牌CEE
• 出产日期
• 购买日期
• 所属单位浙江大学
• 使用性质科研
• 所属分类光刻
• 联系人孙颖
• 联系电话13858114028
• 联系邮箱suny@zju.edu.cn
• 放置地点微纳加工中心

主要规格及技术指标

最大可完成8英寸晶圆的匀胶烘烤，向下兼容。Windows操作系统，PC控制。密码设定保护。

匀胶机：最大转速12000 rpm，转速精度<0.2 rpm。加速范围0~30000 rpm/s。
时间设定精度0.1 s。最大9999.9 s。不均匀性<±3% @4英寸。

热板：10英寸方形, 配可编程顶针和限位孔。温度设定范围300℃，温度误差±0.3%。温度均匀性±0.5℃。

主要功能及特色

光刻胶旋涂及烘烤。适用于半导体制造，微纳米加工，传感器，MEMS，化合物，生物医疗等一切需要光刻工艺的领域。

样本检测注意事项

小片必须用小号chuck。

设备使用相关说明

校内：
【1】自行操作400元/小时。
【2】委托加工500元/小时。
【3】除光刻配套培训外，单独培训该设备培训费100元/人/次（机时费另算）。
【4】不足30分钟按30分钟计算，30分钟以上15分钟为基本计时单位。
【5】该价格含常规提供滴管、清洁用有机试剂和无尘纸等耗材，其他耗材自备或由中心提供按成本单独计算。
【说明】收费标准仅针对正常单项工艺，如有工艺流程设计或其他特殊加工要求，费用另行计算并按标准工艺折算机时计收。

校外：
【1】自行操作600元/小时。
【2】委托加工800元/小时。【3】除光刻配套培训外，单独培训该设备培训费100元/人/次（机时费另算）。
【4】不足30分钟按30分钟计算，30分钟以上以15分钟为基本计时单位。
【5】该价格含常规提供滴管、清洁用有机试剂和无尘纸等耗材，其他耗材自备或由中心提供按成本单独计算。
【说明】收费标准仅针对正常单项工艺，如有工艺流程设计或其他特殊加工要求，费用另行计算并按标准工艺折算机时计收。

备注

预约前需按照微纳加工中心要求注册、培训及考核。首次使用设备前请联系负责老师，培训考核通过后自行预约使用。