• 名称ALD原子层沉积系统12005193
• 资产编号12005193
• 型号ALD150LX
• 规格13.56MHz
• 产地美国
• 厂家美国Lesker公司
• 所属品牌
• 出产日期
• 购买日期
• 所属单位浙江大学
• 使用性质科研
• 所属分类镀膜
• 联系人王妹芳
• 联系电话18989499499
• 联系邮箱
• 放置地点微纳加工中心

主要规格及技术指标

技术指标:
1.主要沉积高K介电薄膜，如Al2O3, ZnO等
2.沉积的薄膜致密无漏点，大面积(最大100mm)且均匀性好(<1%）
3.薄膜可低温生长(从室温到350oC)，膜厚可精确控制在～1Å
4.工艺温度：最高500℃
5.样品尺寸：4英寸向下兼容
6.沉积速率： Al2O3 10nm/125cycle, ZnO 20nm/125cycle
7.极好的台阶、孔洞等三维覆盖率，可广泛适用于各种形状的衬底
8.配有系统控制软件平台，可编辑工作程序进行多层不同薄膜的沉积

主要功能及特色

主要功能及应用范围：微纳电子学、纳米材料及相关器件等领域，可作为集成电路中MIM电容器涂层，防反射包覆层，多层结构光学电介质，有机发光显示器反湿涂层以及应用在太阳能电池和MEMS微机电系统等领域。

设备使用相关说明

校内：自行操作：240元/小时。 委托加工：360元/小时。 15分钟为基本计时单位。 设备培训费200元/人/次（机时费另算）。说明：收费标准仅针对正常单项工艺，如有工艺流程设计或其他特殊加工要求，按标准工艺折算机时计收。 校外：自行操作：480元/小时。 委托加工：720元/小时。 15分钟为基本计时单位。 设备培训费400元/人/次（机时费另算）。说明：1.收费标准为不含税价格。2.收费标准仅针对正常单项工艺，如有工艺流程设计或其他特殊加工要求，按标准工艺折算机时计收。 （浙江大学收费管理小组2018年第4次会议）

备注

预约前需按照微纳加工中心要求注册、培训及考核。首次使用设备前请联系负责老师，培训考核通过后自行预约使用。