• 名称ICP 深反应刻蚀机(Oxford PlasmalabSystem100)13017746
• 资产编号13017746
• 型号GBP3260
• 规格
• 产地
• 厂家英国牛津仪器等离子技术公司
• 所属品牌
• 出产日期
• 购买日期
• 所属单位浙江大学
• 使用性质科研
• 所属分类刻蚀
• 联系人陈长鸿
• 联系电话18259127797
• 联系邮箱chchen@zju.edu.cn
• 放置地点微纳加工中心

主要规格及技术指标

"规格： System100ICP180，高深宽比电感耦合型等离子增强。
技术指标：
1.工艺气体：N2，O2, CHF3，C4F8，SF6
2.样品尺寸：4英寸基片，小于4英寸的基片需使用4英寸基片做载片。
3.RF功率：0－ 600W可调
4.ICP功率： 0－3000W可调
4. 样品台温度： -30℃至150℃可调
5.刻蚀工艺：深Si刻蚀Bosch工艺、低温等
6.刻蚀材料：深硅
7.刻蚀精度：最小线宽100nm
8.深宽比：30:1
9.刻蚀速率：2-5um/min"

主要功能及特色

该系统使用了F基的刻蚀气体，具有Bosch工艺，适合于对硅材料进行大深宽比刻蚀。

设备使用相关说明

校内： 自行操作：机时费500元/小时。 委托加工：700元/小时。 15分钟为基本计时单元。 设备培训费200元/人/次。 说明：收费标准仅针对正常单项工艺，如有工艺流程设计或其他特殊加工要求，按标准工艺折算机时计收。 校外： 自行操作：机时费1000元/小时。 委托加工：1400元/小时。 15分钟为基本计时单元。 设备培训费400元/人/次。 说明：1.收费标准为不含税价格。2.收费标准仅针对正常单项工艺，如有工艺流程设计或其他特殊加工要求，按标准工艺折算机时计收。 （浙江大学收费管理小组2018年第4次会议）

备注

预约设备前请先联系管理员